硅片清洗剂

Posted: 2019-12-26

硅片清洗剂配方
A组分 液体（抗疲劳清洗，去除铜离子、提高双氧水效率）
喜赫95%高含量TEXZO-95%FMEE  5%
喜赫PAS80  5%
TEXZO-PU         5%
异丙醇       5%
喜赫EDDHA-Na    5%
纯水                75%

B组分 固体   25kg每袋 （去除氧化硅，稳定碱性）
氢氧化钠    30%
氢氧化钾    30%
纯碱            40%
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